Spin Coater Terprogram SC-4 dengan Pompa Vakum, 9999 RPM untuk Wafer 4 Inci | FMFPAX

Ringkasan Produk

FMFPAX SC-4 adalah spin coater vakum laboratorium yang presisi tinggi dan ringkas, dirancang untuk deposisi lapisan tipis, pelapisan photoresist, pelapisan wafer, dan persiapan substrat kecil hingga 4 inci (100 mm). Dilengkapi resep sekali langkah maupun multi-langkah yang dapat diprogram, SC-4 memungkinkan peneliti mengontrol kecepatan putar, waktu proses, dan laju rampa akselerasi secara presisi untuk pelapisan yang seragam dan dapat diulang di bidang semikonduktor, nanoteknologi, dan ilmu material.

Fitur Utama

• Paket Lengkap dengan Pompa Vakum: Paket standar sudah termasuk pompa vakum eksternal dan perangkat vacuum chuck, sehingga substrat dapat langsung dicekam tanpa perlu membeli peralatan tambahan.
• 100-9999 RPM Rentang Kecepatan Lebar: Dapat diatur dari 100 hingga 9999 rpm dengan resolusi 1 rpm, dilengkapi rentang kemiringan akselerasi 100-9999 rpm/s untuk kontrol proses yang presisi.
• Resep Multi-langkah yang Dapat Diprogram: Mendukung operasi sekali langkah maupun multi-langkah, dengan parameter kecepatan, durasi (hingga 3000 s per langkah), dan akselerasi yang independen untuk kurva pelapisan multi-tahap.
• Kompatibilitas Substrat yang Luas (Hingga 4 Inci): Dirancang untuk sampel kecil, kaca preparat, kaca konduktif ITO, dan wafer semikonduktor standar hingga 4 inci.
• Motor DC Tanpa Sikat: Menghasilkan putaran yang halus, minim getaran, dan sangat senyap, sehingga lapisan tipis yang dihasilkan sangat seragam serta umur pakai di laboratorium lebih panjang.
• Spin Coater Benchtop Kompak & Siap Glove Box: Desain kompak untuk meja laboratorium, lemari asam, dan glove box yang sesuai. Periksa ruang yang tersedia, bukaan akses, dan ventilasi sebelum pemasangan.
• Kontrol Digital yang Mudah Digunakan: Layar LCD di bagian depan dengan tombol taktil, serta tampilan menu yang dapat dialihkan antara bahasa Inggris dan Mandarin.
• 110V atau 220V Pilihan: Pilih tegangan yang sesuai dengan suplai listrik setempat Anda.

Aplikasi

SC-4 dirancang untuk berbagai alur kerja riset akademik, industri, dan semikonduktor, di antaranya:

• Semikonduktor & Mikroelektronika: Pelapisan wafer silikon, pelapisan putar fotoresist (positif/negatif), dan persiapan sampel untuk fotolitografi UV.
• & Optik dan Film Konduktif: Pelapisan putar pada kaca preparat, substrat kaca konduktif ITO/FTO, dan lensa optik.
• Ilmu Material & Nanoteknologi: Deposisi lapisan tipis sol-gel, lapisan sel surya perovskit, film polimer, dan lapisan nanomaterial fungsional.
• & Biologi dan Kimia: Pemrosesan chip kecil, cover slip, dan substrat untuk modifikasi permukaan.

Spesifikasi Teknis

Kontrol dan Konektor

• Layar LCD digital di bagian depan dengan tombol penyesuaian parameter yang mudah digunakan serta kontrol mode, pompa, mulai, dan jeda.
• Port sambungan vakum VAC di bagian belakang untuk menyambung dengan cepat ke pompa vakum yang disertakan.
• Penutup transparan berengsel dengan wadah percik untuk menampung cairan proses secara aman.

& Catatan Pengaturan

Pompa vakum dan saluran vakum sudah termasuk, sehingga tidak diperlukan sumber vakum terpisah. Pilih 110V atau 220V sesuai dengan suplai listrik setempat Anda. Sebelum memutar, hubungkan pompa yang disertakan dan letakkan substrat tepat di tengah sehingga menutupi seluruh permukaan vakum chuck dan O-ring.

Pertanyaan yang Sering Diajukan (FAQ)

Apakah paket SC-4 sudah termasuk pompa vakum?

Ya. Berbeda dengan banyak unit mandiri di pasaran, paket standar SC-4 sudah termasuk pompa vakum eksternal dan sambungan saluran vakum, sehingga menjadi sistem lengkap yang siap dioperasikan.

Ukuran dan jenis substrat apa saja yang dapat diproses?

SC-4 mendukung substrat berdiameter atau diagonal hingga 4 inci (100 mm), termasuk wafer silikon standar, kaca preparat, pelat kuarsa, dan kaca konduktif ITO/FTO.

Apakah spin coater ini dapat menjalankan program pelapisan multi-langkah?

Ya. SC-4 dilengkapi kontrol multi-langkah yang dapat diprogram. Operator dapat menyesuaikan kecepatan, rampa akselerasi, dan waktu tahan untuk setiap langkah guna menghasilkan profil pelapisan yang halus (misalnya penyebaran awal pada kecepatan rendah dilanjutkan dengan penipisan pada kecepatan tinggi).

Apakah SC-4 cocok digunakan di dalam glove box?

Bisa, asalkan ruang tertutup cukup luas, bukaan akses sesuai, dan ventilasi memadai untuk proses pelapisan. Hubungi sales@fmfpack.com untuk memastikan dimensi sebelum memesan.

Berapa rentang dan resolusi kecepatannya?

100–9999 RPM dengan kenaikan pengaturan 1 RPM. Pastikan rentang operasi untuk versi unit yang dikirim sebelum memesan. Kenaikan 1 RPM merupakan resolusi pengaturan, bukan toleransi akurasi.

Apakah bahasa tampilan dapat diubah?

Ya. Tahan Mode selama 3 detik, lalu tahan SET selama 3 detik untuk masuk ke Konfigurasi Sistem. Gunakan kiri/kanan untuk memilih Language, atas/bawah untuk memilih 2. English, dan tahan SET selama 3 detik untuk menyimpan. Tekan Mode untuk kembali.

Cara Penggunaan dan Manual Pengguna Bahasa Inggris

1. Pasang chuck dengan kencang, hubungkan pompa vakum yang disertakan, lalu colokkan unit ke sumber listrik yang sesuai dengan versi 110V atau 220V yang Anda pilih.
2. Letakkan substrat di tengah sehingga menutupi seluruh permukaan vakum chuck dan O-ring sepenuhnya; tutup penutupnya.
3. Pilih Easy Mode atau Standard Mode. Tahan SET selama 3 detik untuk mengedit; atur kecepatan, waktu, dan laju rampa, lalu tahan SET untuk menyimpan.
4. Mulai resep dan tunggu hingga rotasi berhenti sebelum mengeluarkan substrat.

Mode Standar menyimpan lima resep dengan lima langkah untuk setiap resep. Gunakan selang vakum dengan diameter dalam 4 mm / diameter luar 6 mm dan jaga perlambatan sistem pada atau di bawah 3.000 RPM/s. Pompa vakum sudah termasuk, sehingga tidak diperlukan sumber vakum terpisah. Pilih versi 110V atau 220V sesuai dengan suplai listrik setempat Anda.

Apakah tersedia manual pengguna?

Baca panduan pengaturan, pemrograman, dan menu bahasa Inggris SC-4, atau unduh PDF manual pengguna bahasa Inggris.