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EZ4 / SC4 Revestidor a Vácuo de Bancada, Máquina de Revestimento por Rotação Programável com Tela Touch para Revestimento de Filme Fino em Wafer de 4 Polegadas, 110V/220V

$1,429.39 USD

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Modelo e Gabinete EZ4-PP (Carcaça PP) SC4-AL (Carcaça de Liga de Alumínio)

Visão Geral do Produto

O EZ4 / SC4 é um spin coater a vácuo de bancada para revestimento de fotoresiste, revestimento de filme fino, revestimento de wafer, revestimento de lâmina de vidro, revestimento de vidro condutor ITO e fluxos de trabalho de preparação de pequenas amostras. Os dois modelos selecionáveis compartilham a mesma função de spin coating e plataforma de controle; a diferença na encomenda é o material da carcaça externa.

Opções de Modelo

Variante	Material da carcaça	SKU
EZ4-PP	Carcaça de plástico PP	EZ4-PP
SC4-AL	Carcaça de liga de alumínio	SC4-AL

Principais Características

Spin coater compacto de laboratório / máquina de spin coating para substratos de até 4 polegadas.
Velocidade de rotação ajustável até 9999 RPM com resolução de velocidade de 1 RPM.
Operação programável em passo único e múltiplos passos com configurações de velocidade, tempo e aceleração.
Tempo máximo de rotação de 3000 s com resolução de tempo de 1 s.
Configuração máxima de aceleração de 9999 RPM/s.
Mandril de spin a vácuo com conexão de tubo de vácuo de 4 mm ID / 6 mm OD.
Tampa articulada transparente, painel de controle frontal, botão de execução, botão de vácuo e interfaces VAC / energia traseiras.
Exibição de menu em chinês e inglês com configuração de idioma alternável.
Corpo compacto de bancada adequado para instalação em caixa de luvas quando o ambiente operacional atender aos requisitos do equipamento.

Especificações

Modelos	EZ4-PP, SC4-AL
Tipo de equipamento	Spin coater de laboratório / processador compacto de spin
Tamanho do substrato processável	Até 4 polegadas
Velocidade máxima de rotação	9999 RPM (sem carga)
Resolução de velocidade	1 RPM
Tempo máximo de rotação	3000 s
Resolução de tempo	1 s
Taxa máxima de aceleração	9999 RPM/s (sem carga)
Compatibilidade de substrato e mandril	Uso com amostras compatíveis de até um wafer padrão de 4 polegadas; confirme a profundidade da amostra e o encaixe do mandril antes da operação.
Tamanho total	215 mm (W) x 285 mm (D) x 222 mm (H)
Peso	6 kg
Entrada de energia	100-120V monofásico, 150W / 200-230V monofásico, 150W
Vácuo requerido	0,06-0,09 MPa, taxa mínima de fluxo de 1,5 L/min
Tubulação de vácuo	4 mm ID, 6 mm OD
Pacote padrão	Equipamento spin coater, mandril de 10 mm, placa de transporte de 25 mm, mandril de 2 polegadas, cabo de energia e inserto

Controles e Configuração

A interface frontal suporta configuração de parâmetros para velocidade, tempo e aceleração, além de modos de operação rápida e multi-step.
A parte traseira inclui fusível, soquete do cabo de energia e interface do tubo de vácuo.
A linha de vácuo conecta a bomba de vácuo externa e o mandril para que a amostra possa ser mantida por vácuo durante o spin coating.
Coloque o equipamento sobre uma superfície plana e estável com boa ventilação antes da operação.

Notas de Seleção

Escolha EZ4-PP quando preferir uma carcaça de plástico PP, ou escolha SC4-AL quando preferir uma carcaça de liga de alumínio. Confirme o tamanho do substrato, encaixe do mandril, versão de voltagem, tipo de plugue e configuração de vácuo antes de fazer o pedido.