• EZ4 SC4 spin coater de laboratório para revestimento de filmes finos em wafer de 4 polegadas
  • EZ4 SC4 revestidor por centrifugação a vácuo de bancada com ecrã tátil — imagem principal
  • EZ4 SC4 benchtop vacuum spin coater demo video with touch screen and vacuum spin chuck
  • Mandril rotativo de vácuo e tampa articulada na máquina de revestimento por rotação EZ4 SC4
  • Painel de controlo programável para revestimento por centrifugação com botões de funcionamento e vácuo
  • EZ4 vista lateral do revestidor por centrifugação de laboratório com corpo em PP
  • SC4 vista lateral de revestidor centrífugo de laboratório com caixa em alumínio
  • Porta VAC traseira e interface de alimentação para revestidor rotativo a vácuo
  • Configuração de máquina de revestimento por centrifugação de bancada para preparação de amostras de filmes finos
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FMF

Revestidor por rotação a vácuo de bancada FMF EZ4 / SC4, máquina de revestimento por rotação programável com ecrã tátil de 9999 RPM para revestimento de película fina em wafer de 4 polegadas, 110V/220V

$1,429.39 USD
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Visão Geral do Produto

O EZ4 / SC4 é um spin coater de bancada a vácuo para revestimento de fotoresiste, película fina, wafer, lâminas de vidro, vidro condutor ITO e preparação de pequenas amostras. Os dois modelos selecionáveis partilham a mesma função de revestimento por spin e plataforma de controlo; a diferença na encomenda reside no material do invólucro exterior.

Opções de Modelo

Variante Material do invólucro SKU
EZ4-PP Invólucro em plástico PP EZ4-PP
SC4-AL Invólucro em liga de alumínio SC4-AL

Características Principais

  • Spin coater / máquina de revestimento por spin compacta para substratos até 4 polegadas.
  • Velocidade de rotação ajustável até 9999 RPM com resolução de 1 RPM.
  • Operação programável de passo único e múltiplos passos com definições de velocidade, tempo e aceleração.
  • Tempo máximo de rotação de 3000 s com resolução de 1 s.
  • Aceleração máxima de 9999 RPM/s.
  • Suporte de vácuo com ligação de tubo de vácuo de 4 mm DI / 6 mm DE.
  • Tampa articulada transparente, painel de controlo frontal, botão de execução, botão de vácuo e interfaces VAC / alimentação na parte traseira.
  • Menu em chinês e inglês com definição de idioma comutável.
  • Corpo compacto de bancada adequado para instalação em glove-box quando as condições de funcionamento se enquadram nos requisitos do equipamento.

Especificações

Modelos EZ4-PP, SC4-AL
Tipo de equipamento Spin coater de laboratório / processador de spin compacto
Tamanho do substrato processável Até 4 polegadas
Velocidade máxima de rotação 9999 RPM (sem carga)
Resolução de velocidade 1 RPM
Tempo máximo de rotação 3000 s
Resolução de tempo 1 s
Taxa de rampa máxima 9999 RPM/s (sem carga)
Ajuste do substrato e do suporte Utilizar com amostras compatíveis até um wafer padrão 4-inch; confirmar a profundidade da amostra e o ajuste do suporte antes da operação.
Dimensões totais 215 mm (L) x 285 mm (P) x 222 mm (A)
Peso 6 kg
Alimentação elétrica 100-120V monofásico, 150W / 200-230V monofásico, 150W
Vácuo necessário 0.06-0.09 MPa, caudal mínimo de 1.5 L/min
Tubo de vácuo 4 mm DI, 6 mm DE
Embalagem padrão Equipamento spin coater, suporte de 10 mm, placa de transporte de 25 mm, suporte de 2 polegadas, cabo de alimentação e inserto

Controlos e Configuração

  • A interface frontal permite a configuração de parâmetros de velocidade, tempo e aceleração, bem como modos de operação de execução rápida e múltiplos passos.
  • A parte traseira inclui o fusível, a tomada do cabo de alimentação e a interface do tubo de vácuo.
  • A linha de vácuo liga a bomba de vácuo externa ao suporte, permitindo que a amostra seja fixada por vácuo durante o revestimento por spin.
  • Colocar o equipamento numa superfície plana e estável com boa ventilação antes da operação.

Notas de Seleção

Escolha EZ4-PP quando preferir um invólucro em plástico PP, ou escolha SC4-AL quando preferir um invólucro em liga de alumínio. Confirme o tamanho do substrato, o ajuste do suporte, a versão de tensão, o tipo de ficha e a configuração de vácuo antes de encomendar.

FAQ

Qual é a diferença entre EZ4 e SC4?

A diferença listada é o material do invólucro exterior: EZ4-PP utiliza um invólucro em plástico PP, enquanto SC4-AL utiliza um invólucro em liga de alumínio.

Que tamanho de substrato este spin coater pode processar?

O tamanho de substrato processável listado é até 4 polegadas.

Qual é a velocidade máxima?

A velocidade máxima de rotação listada é 9999 RPM com resolução de 1 RPM.

Pode executar programas de múltiplos passos?

Sim. A interface suporta operação de passo único e múltiplos passos com definições de velocidade, tempo e aceleração.

O menu suporta inglês?

Sim. O instrumento suporta exibição de menu em chinês e inglês, e o idioma pode ser alternado conforme necessário.

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