• EZ4 SC4 spin coater da laboratorio per rivestimento di film sottili su wafer da 4 pollici
  • EZ4 SC4 spin coater sottovuoto da banco con touch screen immagine principale
  • EZ4 SC4 benchtop vacuum spin coater demo video with touch screen and vacuum spin chuck
  • Mandrino rotante per vuoto e coperchio incernierato su EZ4 SC4 macchina per spin coating
  • Pannello di controllo programmabile per spin coater con pulsanti di avvio e vuoto
  • Vista laterale del rivestitore rotante da laboratorio con alloggiamento in PP EZ4
  • Vista laterale del rivestitore rotante da laboratorio con alloggiamento in alluminio SC4
  • Porta VAC posteriore e interfaccia di alimentazione per spin coater a vuoto
  • Apparecchiatura da banco per spin coating per la preparazione di campioni a film sottile
1 9

FMF

FMF EZ4 / SC4 Spin Coater da banco sottovuoto, macchina per spin coating con touch screen programmabile a 9999 giri/min per rivestimento a film sottile su wafer da 4 pollici, 110V/220V

$1,429.39 USD
$0.00 USD $1,429.39 USD
In offerta Esaurito
Imposte incluse. Spese di spedizione calcolate al check-out.
Modello e Alloggiamento

Accepted secure payment methods

Mastercard Visa American Express PayPal Discover JCB Bank Transfer

Panoramica del prodotto

Il EZ4 / SC4 è uno spin coater da banco sottovuoto progettato per rivestimenti di fotoresist, film sottili, wafer, vetrini portaoggetti, vetro conduttivo ITO e preparazione di piccoli campioni. I due modelli selezionabili condividono la stessa funzione di rivestimento per centrifugazione e la stessa piattaforma di controllo; la differenza nell'ordine risiede nel materiale dell'involucro esterno.

Opzioni del modello

Variante Materiale dell'involucro SKU
EZ4-PP Involucro in plastica PP EZ4-PP
SC4-AL Involucro in lega di alluminio SC4-AL

Caratteristiche principali

  • Spin coater da laboratorio compatto / macchina per rivestimento per centrifugazione per substrati fino a 4 pollici.
  • Velocità di rotazione regolabile fino a 9999 RPM con risoluzione di 1 RPM.
  • Funzionamento programmabile a singolo e multiplo stadio con impostazioni di velocità, tempo e accelerazione.
  • Tempo di rotazione massimo di 3000 s con risoluzione di 1 s.
  • Impostazione di accelerazione massima di 9999 RPM/s.
  • Mandrino di rotazione sottovuoto con collegamento per tubo flessibile da 4 mm di diametro interno / 6 mm di diametro esterno.
  • Coperchio incernierato trasparente, pannello di controllo frontale, pulsante di avvio, pulsante del vuoto e interfacce posteriori VAC / alimentazione.
  • Display con menu in cinese e inglese con impostazione della lingua commutabile.
  • Corpo compatto da banco adatto per installazione in glove-box quando l'ambiente operativo soddisfa i requisiti dell'apparecchiatura.

Specifiche tecniche

Modelli EZ4-PP, SC4-AL
Tipo di apparecchiatura Spin coater da laboratorio / processore di rotazione compatto
Dimensione del substrato lavorabile Fino a 4 pollici
Velocità di rotazione massima 9999 RPM (a vuoto)
Risoluzione della velocità 1 RPM
Tempo di rotazione massimo 3000 s
Risoluzione del tempo 1 s
Velocità di rampa massima 9999 RPM/s (a vuoto)
Adattamento substrato e mandrino Utilizzare con campioni compatibili fino a un wafer standard 4-inch; verificare la profondità del campione e l'adattamento del mandrino prima dell'operazione.
Dimensioni totali 215 mm (L) x 285 mm (P) x 222 mm (A)
Peso 6 kg
Alimentazione 100-120V monofase, 150W / 200-230V monofase, 150W
Vuoto richiesto 0.06-0.09 MPa, portata minima 1.5 L/min
Tubo flessibile per vuoto Diametro interno 4 mm, diametro esterno 6 mm
Dotazione standard Apparecchiatura spin coater, mandrino da 10 mm, piastra di supporto da 25 mm, mandrino da 2 pollici, cavo di alimentazione e inserto

Comandi e configurazione

  • L'interfaccia frontale consente l'impostazione dei parametri di velocità, tempo e accelerazione, oltre alle modalità operative a esecuzione rapida e a più stadi.
  • Sul lato posteriore si trovano il fusibile, la presa del cavo di alimentazione e l'interfaccia del tubo del vuoto.
  • La linea del vuoto collega la pompa per vuoto esterna e il mandrino in modo che il campione possa essere trattenuto dal vuoto durante il rivestimento per centrifugazione.
  • Posizionare l'apparecchiatura su una superficie piana e stabile con una buona ventilazione prima dell'operazione.

Note per la selezione

Scegliere EZ4-PP quando si preferisce un involucro in plastica PP, oppure SC4-AL quando si preferisce un involucro in lega di alluminio. Prima di ordinare, verificare le dimensioni del substrato, l'adattamento del mandrino, la versione di tensione, il tipo di spina e la configurazione del vuoto.

FAQ

Qual è la differenza tra EZ4 e SC4?

La differenza elencata è il materiale dell'involucro esterno: EZ4-PP utilizza un involucro in plastica PP, mentre SC4-AL utilizza un involucro in lega di alluminio.

Quale dimensione del substrato può gestire questo spin coater?

La dimensione del substrato lavorabile indicata è fino a 4 pollici.

Qual è la velocità massima?

La velocità di rotazione massima indicata è 9999 RPM con risoluzione di 1 RPM.

Può eseguire programmi a più stadi?

Sì. L'interfaccia supporta il funzionamento a singolo e multiplo stadio con impostazioni di velocità, tempo e accelerazione.

Il menu supporta l'inglese?

Sì. Lo strumento supporta la visualizzazione del menu in cinese e inglese e la lingua può essere commutata secondo necessità.

Visualizza dettagli completi

Potrebbero piacerti anche